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卢文壮; 左敦稳; 王珉; 黎向锋; 徐锋;
南京航空航天大学机电工程学院,南京,210016;
CVD金刚石膜; 硬质合金; 电沉积Cr; 过渡层; 结合强度;
机译:锐钛型和金红石型二氧化钛表面上CRO42-,HCRO4-和CR2O72-的沉积机理研究进展
机译:冷雾沉积MCRAIY涂层粘附机理的研究
机译:铜上钴电解沉积膜中过渡层结构形成机理的研究
机译:CVD金刚石膜与强碳化物形成元素之间的碳化物过渡层的系统研究
机译:对加拿大西北部麦肯奇山新元古代-寒武纪过渡层的沉积学,层序地层学和岩石学的综合研究。
机译:等离子增强原子层沉积法生长的电力电子应用氮化铝过渡层
机译:Cr过渡层位置及金属沉积角度对纳米球刻蚀法制备二维银纳米点阵结构的影响
机译:单层纤维摩擦力学机理的分析与实验研究Ⅰ。粘附机理的数学模型及纤维摩擦与正常载荷的一般方程
机译:在金属和其他表面上粘附CVD金刚石膜的技术及其影响。
机译:一副固定和紧密粘附型眼镜沿沟壑道路上的沟和沟的弓形方法和机理
机译:研究用器件过渡层导电表面
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