MEMS磁传感器斜面Barber电极制作技术

方佼; 於广军; 闻永祥; 李晓伟; 陈雪平

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本文介绍了一种在MEMS磁传感器中利用剥离工艺制作斜面barber电极的技术.通过研究曝光量、PEB温度和PEB时间对负胶倒角的影响得到最佳工艺条件,负胶形貌为倒梯形,等效倒角约69°.曝光量主要影响曝光区域链式反应的充分度;PEB温度和PEB时间主要影响链式反应后收缩应力的释放程度.优化后的工艺成功运用在MEMS磁传感器barber电极的制作中,平面和斜面barber电极无脱落异常.

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来源
《中国集成电路》 |2016年第6期|64-68|共5页
作者
方佼; 於广军; 闻永祥; 李晓伟; 陈雪平;
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作者单位

杭州士兰集成电路有限公司,浙江杭州,310083;

杭州士兰集成电路有限公司,浙江杭州,310083;

杭州士兰集成电路有限公司,浙江杭州,310083;

杭州士兰集成电路有限公司,浙江杭州,310083;

杭州士兰集成电路有限公司,浙江杭州,310083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类
关键词
剥离工艺; barber电极; 负性光刻胶; 倒角; MEMS磁传感器;

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