ICP刻蚀技术在MEMS中的应用

摘要

MEMS系统和器件作为半导体行业中的尖端产品,在制造过程中,其刻蚀工艺成为MEMS器件制作中一个重要的环节,因此对其刻蚀过程中的参数选择变得越来越重要.应用ICP刻蚀机制备一个U型槽的刻蚀,研究上电级功率和压力对刻蚀效果的影响,进而影响MEMS器件的质量.做好实验记录,观察实验结果并分析,通过图片和其他数据参数反映MEMS器件的刻蚀效果与质量.