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赵彦君; 何莲; 阳硕; 张文豪; 满卫东;
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;
湖北武汉430073;
微波等离子体化学气相沉积; 均匀性; 偏压; 沉积参数; 金刚石薄膜;
机译:浅,致密,连续纳米晶金刚石薄膜的成核和MPCVD生长研究,裸露和Si_3N_4涂层N极GaN
机译:MPCVD金刚石薄膜的拉曼光谱研究
机译:总压和甲烷浓度对MPCVD生长的金刚石薄膜的生长速率和质量的影响的研究
机译:MPCVD生长的掺硼金刚石薄膜二次电子发射的研究
机译:利用电子回旋共振微波放电进行金刚石薄膜和类金刚石碳膜沉积的研究。
机译:银离子注入/退火后的超纳米晶金刚石薄膜增强电子发射的纳米尺度研究
机译:错误:“通过双侧温度反射纳米晶金刚石薄膜的热传导不均匀性”Appl。物理。吧。 102,111907(2013)
机译:双面热反射率对纳米金刚石薄膜的热传导不均匀性。
机译:通过拓扑诱导增加研究以提高蚀刻均匀性
机译:增塑剂中的分散颜料着色剂颗粒,提高所述分散剂的颜色均匀性的方法,树脂热塑薄膜的形成方法,透明塑料。提高层压的聚乙烯醇缩丁醛片的角膜制备的稠度的方法薄片和透明着色树脂
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