无线耦合式MPCVD制备大面积金刚石薄膜的研究

摘要

该文研究了天线耦合式MPCVD制备金刚石薄膜的特点，考察了气体压力、甲烷浓度、输出功率及基体位置对沉积面积及沉积薄膜均匀性的影响，并成功地制备出直径为60mm～80mm的金刚石薄膜，比常用的表面波耦合MPCVD设备制备的薄膜面积扩大了一倍。