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CHN薄膜的制备

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摘要

文章简要描述了空心阴极等离子体化学气相沉积(HPCVD)的原理,以及用HPCVD方法制备CHN薄膜的工艺和实验结果.用XPS和AFM分别分析了CHN薄膜中C和N的成分及表面形貌,并得到了一定条件下的薄膜沉积速率.

著录项

来源
《原子能科学技术》|2005年第2期|176-178|共3页
作者
李常明; 陈志梅; 吴卫东; 唐永建;
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作者单位

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜测量与分析;
关键词
空心阴极等离子体化学气相沉积; CHN; 薄膜; XPS;
入库时间 2022-08-18 01:36:22

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