钢化温度对在线低辐射薄膜结构和性能的影响

摘要

本文以浮法在线化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2（FTO）低辐射薄膜为研究对象，在钢化炉中进行后期高温处理，采用X射线衍射仪、紫外一可见分光光度计和综合物理性能测试系统（PPMS）研究了其结构、形貌、光电性质的温度效应。通过X光电子能谱分析了薄膜中元素的分布情况，探讨了薄膜电学性能的恶化机理。研究结果表明，FTO薄膜的主要组成为非化学计量比的SnO2-x：F（x≈0．8～0．9），是金红石结构多晶SnO2，以（200）晶面为最明显的择优取向。FTO低辐射薄膜的高温热稳定性良好，最高耐热温度为720℃，当超过此条件时，光电性能恶化。随钢化温度的升高，薄膜表层氧的相对含量逐渐降低，FTO和SiOxCy阻挡层之间的界面扩散层中Si—O键相对含量逐渐增加，这一变化趋势与电阻率的升高一致。薄膜内部[O]／[Sn]比受高温钢化的影响较小，对导电性恶化的贡献较小。