S—RRC中膜厚均一性的实现

摘要

本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMP-TION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整,从而降低光刻涂胶中光刻胶的使用量,最终达到降低光刻成本目的。