RTPC在铜化学机械研磨工艺中的应用

摘要

在铜CMPI艺中，为了去除多余的铜金属而形成嵌入式铜互联结构，分别应用电磁和光学信号于第一和第二阶段的研磨终点控制。工艺如图1所示。