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杨亚飞; 姚草根; 吕宏军; 李启军; 崔子振;
航天材料及工艺研究所 北京100076;
W-Ti合金靶材; 集成电路; 致密度;
机译:磁控溅射靶材Si-Cr-Co合金的显微组织
机译:使用合金靶材通过反应磁控溅射高速沉积高质量的Sn掺杂In_2O_3薄膜
机译:用于磁控溅射靶材的Si-Ni-Fe合金
机译:磁控溅射沉积的W-Ti薄膜的结构与性能
机译:使用脉冲激光沉积从多相靶材制造Heusler合金薄膜。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:高功率脉冲磁控溅射中靶材对电流脉冲的影响
机译:W-Ti合金的热爆炸固结:微观结构效应
机译:用于通过磁控溅射沉积不同材料的合金,混合物或不同产物的反应层的涂覆装置具有由同心布置的局部靶材制成的靶材,每个靶材均由待沉积材料制成
机译:W-Ti W-TI溅射靶材
机译:W-Ti扩散阻止膜具有较高的刻蚀率,W-Ti溅射靶材用于形成相同的膜
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