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毛凌锋; 谭长华; 许铭真; 卫建林;
北京大学微电子学研究所,北京,100871;
机译:半导体厚度和背栅电压对具有超薄氧化物的MOS / SOI系统中栅极隧道电流的影响
机译:超薄(<2 nm)介电MOS和H-MOS器件中栅隧穿漏电流减小的波机理研究
机译:超薄Y2O3层对Ge MOS栅叠层中GeO2钝化的影响
机译:栅氧化层的损坏是由于采用超薄和标准氧化物的MOS结构中的栅注入造成的
机译:省电的模拟系统,可通过浮栅MOS器件为便携式应用执行信号处理。
机译:超薄Hf-Ti-O高k栅介电薄膜的电学特性及其在ETSOI MOSFET中的应用
机译:用monte Carlo方法研究siC基mOsFET中电子输运特性的栅长和源漏偏差
机译:在恶劣环境中的双栅sOI / mOs器件和电路
机译:在MOSFET的高k /氧化物堆叠栅电介质中形成超薄基础氧化物的方法
机译:用于双栅CMOS器件的氮注入超薄栅氧化物的形成方法
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