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TiN/TiB2异结构纳米多层膜的共格生长与力学性能

         

摘要

采用多靶磁控溅射法制备了一系列具有不同TiB2调制层厚度的TiN/TiB2纳米多层膜.利用x射线衍射仪、高分辨电子显微镜和微力学探针研究了TiB2层厚变化对多层膜生长结构和力学性能的影响.结果表明,在fcc-TiN层(111)生长面的模板作用下,原为非晶态的TiB2层在厚度小于2.9nm时形成hcp晶体态,并与fcc-TiN形成共格外延生长;其界面共格关系为{111}TiN∥{0001}TiB2,〈110〉TiN∥〈1120〉TiB.由于共格界面存在晶格失配度,多层膜中形成拉、压交变的应力场,导致多层膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应,最高硬度和弹性模量分别达到46.9GPa和465GPa.继续增加TiB2层的厚度,TiB2形成非晶态并破坏了与TiN层的共格外延生长,多层膜形成非晶TiN层和非晶TiB2层交替的调制结构,其硬度和弹性模量相应降低.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2005年第10期|4846-4851|共6页
  • 作者单位

    上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

    上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    TiN/TiB2纳米多层膜; 共格生长; 晶体化; 力学性能;

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