基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱研究Ⅱ.四硫富瓦烯化合物

熊少祥; 辛斌; 王光辉; 刘国诠

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基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱研究Ⅱ.四硫富瓦烯化合物

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采用基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS),对四硫富瓦烯化合物进行质谱表征.在所用的实验条件下,样品很容易解吸电离生成单电荷分子离子,得到单同位素分辨的质谱图.26种实际样品的质谱分析结果表明:MALDI-TOF-MS可以比其它质谱方法更有效、更方便地用于此类化合物的质谱分析,解决了此类化合物不易进行质谱鉴定的难题.

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来源
《化学学报》 |2000年第6期|700-703|共4页
作者
熊少祥; 辛斌; 王光辉; 刘国诠;
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作者单位

中国科学院化学研究所;

分子科学中心;

北京质谱中心;

北京;

100080;

中国科学院化学研究所;

分子科学中心;

北京质谱中心;

北京;

100080;

中国科学院化学研究所;

分子科学中心;

北京质谱中心;

北京;

100080;

中国科学院化学研究所;

分子科学中心;

北京质谱中心;

北京;

100080;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱; 四硫富瓦烯; 结构表征;

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