黄瓜苗期低温弱光下MDA含量主基因-多基因联合遗传分析

摘要

选取耐低温弱光性不同的2份黄瓜材料9507、9517及其配制的BC1、BC2、F1、F2等6个世代,进行低温弱光处理,每天光照处理7.5 h,强度为30 μmol·m-2·s-1,约合2 000 lx,白天12℃,晚上8℃,共处理14 d.运用主基因-多基因联合遗传模型方法研究丙二醛(MDA)含量的遗传规律,并估算遗传参数.结果表明MDA含量的遗传受2对加性-显性-上位性主基因+加性-显性多基因控制,2对主基因的加性效应均为负向效应,其显性效应也均为负向,差异不大.总加性效应与总显性效应均为较大的负向效应.分离世代中,主基因的遗传率均比多基因的遗传率高,环境方差对表型方差的影响占有绝对优势,即低温弱光条件下环境对MDA含量的遗传起很大作用,对于这个性状适于晚代选择.