North Carolina State University.;
机译:暴露于低温等离子体的聚合物表面中离子和光子活化机制的解耦
机译:聚合物表面上无机涂层的低温真空沉积中自组装形貌形成的机理
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机译:大气压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)沉积大面积SiO_2薄膜:表面表征的生长机理
机译:等离子体-表面相互作用在过程化学中的作用:α-碳氮化物沉积和硅的氟化硫/氧蚀刻的机理研究。
机译:氩等离子体对原子层沉积Al2O3膜在PET表面沉积的影响
机译:在基于SF6的等离子体中通过低温等离子体增强的原子层沉积法生长的氮化铝掩模层的等离子体蚀刻特性
机译:硅上薄膜沉积中的表面中间体。