Harvard University.;
机译:金属硼化物的化学气相沉积:6.通过化学气相沉积由多面硼团簇和金属卤化物形成硼化钕薄膜材料
机译:在微电子学中获得薄绝缘SiO2基薄膜的CVD技术和设备的趋势。第1部分:材料,沉积方法和设备
机译:通过化学气相沉积和电沉积在硅基板上生长的分子材料薄膜
机译:使用等离子体增强化学气相沉积技术对MEMS器件铜互连的创新氮化物膜沉积
机译:直接液体蒸发化学气相沉积(DLE-CVD)镍,锰和铜基薄膜,用于三维微电子系统中的互连
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:六氟乙酰乙酰丙酯Cu乙烯基环己烷作为铜薄膜低温化学气相沉积的液体前体
机译:气溶胶辅助化学气相沉积铜:金属薄膜的液体输送方法。