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磁控溅射制备Bi/Te多层膜的组分控制及退火性能研究

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第一章 绪论

1.1 课题背景及意义

1.2 热电材料的研究现状

1.3 Bi2Te3基热电材料

1.4 本文研究内容和思路

第二章 热电效应及热电性能的优化方法

2.1 热电效应

2.2 热电优值ZT及热电参数之间的耦合

2.3 热电材料性能参数的优化方法

2.4 本章小结

第三章 Bi2Te3薄膜的样品制备及性能表征

3.1 Bi2Te3薄膜样品制备方法的选择

3.2 Bi/Te多层膜的制备流程

3.3 Bi/Te多层膜的退火流程

3.4 薄膜的测试手段

3.5 本章小结

第四章 Bi/Te多层膜的组分控制

4.1 Bi/Te多层膜的结构设计

4.2 非均匀Bi/Te多层膜的组分调控

4.3 均匀Bi/Te多层膜的组分调控

4.4 退火处理对组分的影响

4.5 本章小结

第五章 Bi/Te多层膜退火性能的研究

5.1 Bi/Te多层膜性能随组分的变化

5.2 Bi/Te多层膜性能随退火温度的变化

5.3 Bi/Te多层膜性能随退火时间的变化

5.4 本章小结

第六章 总结与展望

6.1 总结

6.2 展望

参考文献

发表论文和参加科研情况说明

致谢

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著录项

  • 作者

    颜会芬;

  • 作者单位

    天津工业大学;

  • 授予单位 天津工业大学;
  • 学科 集成电路工程
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 张建新,张强;
  • 年度 2021
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

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