机译:[BI]:【TE]在不同溅射压力下由RF磁控溅射制备的柔性BIXTEY薄膜的控制,结构和热电性能
King Mongkuts Inst Technol Ladkrabang Fac Sci Chalongkrung Rd Bangkok 10520 Thailand;
King Mongkuts Inst Technol Ladkrabang Coll Adv Mfg Innovat Chalongkrung Rd Bangkok 10520 Thailand;
Natl Elect &
Comp Technol Ctr Natl Sci &
Technol Dev Agcy Pathum Thani 12120 Thailand;
King Mongkuts Inst Technol Ladkrabang Fac Sci Chalongkrung Rd Bangkok 10520 Thailand;
Flexible Bi2Te3; RF magnetron sputtering; sputtering pressure; thermoelectric;
机译:[BI]:【TE]在不同溅射压力下由RF磁控溅射制备的柔性BIXTEY薄膜的控制,结构和热电性能
机译:退火温度对高压射频磁控溅射制备的柔性碲化铋薄膜的结构,机械和电性能的影响*
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机译:RF磁控溅射薄膜光伏制备的氢化多晶锗薄膜的结构和电性能
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:更正:SinnarasaI。等。射频磁控溅射制备铜铁矿CuCrO2:Mg薄膜的热电和输运性质。纳米材料20177157
机译:通过二维RF磁控溅射制备的Bi4Ti3O12 / TiO2薄膜的结构和铁电性能