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第1章 绪论
1.1 引言
1.2 硬质涂层
1.3 等离子体简介
1.4 等离子技术在薄膜沉积中的应用
1.4.1 溅射
1.4.2 等离子增强化学气相沉积(PECVD)
1.4.3 等离子体浸没式离子注入技术(PIII)
第2章 类金刚石膜与多层膜
2.1 基本原理和性能
2.1.1 碳
2.1.2 无定形碳
2.2 薄膜的合成
2.2.1 生长机制
2.2.2 沉积技术
2.3 多层膜
2.3.1 纳米多层膜的强化机制
2.3.2 nc-TiAlSiN薄膜的各元素特性
2.4 纳米多层膜超硬刀具的应用
第3章 实验设备与测试方法
3.1 材料表面改性
3.1.1 金属材料强化原理
3.1.2 等离子浸没式离子注入(PIII)
3.2 实验方法及步骤
3.4.1 实验目的
3.4.2 制备步骤
3.3 等离子体注入沉积(PIII-D)设备
3.4 分析仪器
3.4.1 SEM
3.4.2 XPS X射线光电子能谱分析(X-fay photoelectron spectroscopy analysis)
3.4.3 原子力显微镜(AFM)
3.4.4 X光衍射仪(x-ray Diffraction,XRD)
3.4.5 拉曼(Raman)光谱仪
第4章 等离子浸没式离子注入合成高结合力类金刚石膜
4.1 背景
4.2 实验方法
4.3 结果与讨论
4.4 结论
第5章 阴极电弧技术的改良
5.1 阴极电弧技术
5.1.1 阴极电弧沉积技术原理
5.1.2 微粒及微孔隙的形成
5.2 nc-TiAlSiN薄膜的制备
5.3 结果与讨论
5.3.1 nc-TiAlSiN薄膜微结构形态分析
5.3.2 nc-TiAlSiN薄膜的化学组态分析
5.3.3 磁过滤系统对薄膜的影响
5.4 结论
第6章 等离子化学气相沉积与阴极弧沉积碳薄膜之比较
6.1 背景
6.2 实验过程
6.3.1 碳薄膜的制备
6.3.2 内应力测量
6.4 结果与讨论
6.4.1 薄膜生长速率
6.4.2 类金刚石薄膜应力
6.5 拉曼光谱
6.6 结论
第7章 总结
7.1 主要结论
7.2 本课题创新点
附录 辉光放电的物理过程
参考文献
致谢
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果