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马东林;
西南交通大学;
机译:高功率脉冲磁控溅射技术在不同偏压下沉积的Ti-Al-N涂层的表面特性
机译:高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能%高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能
机译:一种有效的证据和测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的金属离子部分用PT,AU,Pd和混合靶标测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)
机译:频率对脉冲磁控溅射(PMS)技术获得的Zr-B-N光学薄膜结构和性能的影响
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:大功率脉冲磁控溅射利用率对TiN薄膜结构和性能的影响
机译:提高用于高重复频率,短脉冲,高功率脉冲发生器的功率mOsFET的开关性能
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
机译:实现高密度,高SP3含量的高功率脉冲磁控溅射工艺
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