声明
第一章 绪 论
1.1 研究背景
1.2 国内外研究现状
1.3 本论文的研究内容及安排
第二章 GaN HEMTs器件物理基础及击穿机制分析
2.1 GaN HEMTs器件物理基础
2.2 GaN HEMTs击穿机制讨论
2.3 GaN HEMTs开关特性分析
2.4 本章小结
第三章 动态过程中P-GaN Gate HEMTs的击穿特性研究
3.1 动态过程中P-(Al)GaN增强型HEMTs可靠性的研究进展
3.2 动态过程中P-GaN HEMTs的提前击穿
3.3 空穴注入诱使沟道电子势垒降低效应
3.4 本章小结
第四章 动态过程中UTB-GaN MOS-HEMTs击穿特性研究
4.1 超薄势垒AlGaN/GaN异质结GaN MOS-HEMTs的研制及测试
4.2 动态漏极偏置下UTB-GaN MOS-HEMTs击穿特性研究
4.3 章节小结
第五章 总结与展望
5.1 全文总结
5.2 后续工作展望
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间取得的成果
电子科技大学;