声明
第一章 绪论
1.1 研究背景与意义
1.2 国内外研究现状
1.2.1 FIB工艺设备的发展与国际现状
1.2.2 工艺原理与模型研究
1.2.3 研究存在的问题
1.3 本文研究内容
1.3.1 拟解决的关键问题
1.3.2 研究内容与章节安排
第二章 聚焦离子束溅射工艺研究实验设计
2.1 聚焦离子束实验设备简述
2.2 聚焦离子束溅射刻蚀实验流程及注意事项
2.3 聚焦离子束溅射刻蚀实验设计
2.3.1聚焦离子束溅射刻蚀基础结构实验
2.3.2 再沉积效应问题实验
2.3.3重叠不对称效应问题实验
2.3.4 不同材料刻蚀研究实验
2.4 本章小结
第三章 聚焦离子束溅射刻蚀实验分析与效应研究
3.1 微结构加工深度与开口控制
3.1.1 单像素线扫描分析
3.1.2 负重叠率扫描设计与验证分析
3.1.3 矩形扫描分析
3.2 再沉积效应分析
3.2.1 驻留时间与再沉积效应控制
3.2.2 再沉积衰减效应
3.2.3 再沉积轮廓计算模型
3.3 重叠加工不对称效应分析
3.3.1 重叠加工实验结果分析
3.3.2 重叠加工不对称效应原理分析及计算
3.4 石英材料加工分析
3.5 本章小结
第四章 聚焦离子束溅射刻蚀工艺建模
4.1 聚焦离子束溅射刻蚀工艺过程分析
4.2 离子束电流密度分布模型
4.3 溅射刻蚀模型
4.3.1 入射角度计算
4.3.2 溅射产额模型
4.3.3 溅射通量模型
4.4 粒子再发射与再沉积模型
4.4.1 再发射分布模型
4.4.2 再沉积通量模型
4.5 扫描策略规划模型
4.5.1扫描序列规划模型
4.5.2扫描像素空间模型
4.6 本章小结
第五章 粒子群优化-连续元胞自动机方法
5.1元胞自动机方法
5.1.1 元胞自动机模型
5.1.2连续元胞自动机模型
5.1.3元胞自动机方法与其他方法比较
5.2 粒子群优化算法
5.2.1 粒子群优化算法模型
5.2.2 粒子群优化算法与其他优化算法比较
5.3 粒子群-连续元胞自动机方法
5.3.1 粒子群-连续元胞自动机方法流程
5.3.2 粒子群-连续元胞自动机方法的聚焦离子束刻蚀计算应用
5.4 本章小结
第六章 模型计算结果分析与工艺应用
6.1 模型工程实现
6.2 基础结构刻蚀计算模拟结果与分析
6.2.1 单像素刻蚀模拟
6.2.2 矩形结构刻蚀模拟
6.3 溅射刻蚀工艺效应计算模拟结果与分析
6.3.1再沉积结构模拟
6.3.2重叠加工模拟
6.3.3 石英材料加工模拟
6.4 复杂微结构工艺设计应用
6.4.1 圆柱型结构加工应用
6.4.2 密集柱形阵列结构设计及加工应用
6.4.3 二次曲面结构设计及加工应用
6.5 本章小结
第七章 总结与展望
7.1 主要研究工作
7.2 研究展望
致谢
参考文献
攻读博士学位期间科研成果简介
东南大学;
