银纳米线网格低温连接方法及其透明电磁屏蔽膜性能研究

目录

第1章绪论

1.1 课题背景及研究的目的和意义

1.2.1 银纳米线的合成方法

1.2.2 银纳米线透明导电膜的应用

1.3 银纳米线搭接节点连接方法的研究现状

1.3.1银纳米线搭接节点的连接原理

1.3.2银纳米线搭接节点的连接方法

1.4 透明电磁屏蔽膜的研究现状

1.4.1 电磁屏蔽的原理

1.4.2 基于透明导电材料的透明电磁屏蔽膜

1.4.3 金属网格透明电磁屏蔽膜

1.5 本文的主要研究内容

第2章实验材料和方法

2.1 实验材料与设备

2.2.1 银纳米线的合成

2.2.2 银纳米线薄膜室温连接的处理方法

2.2.3 银纳米线网格图案层的制备

2.3.1 银纳米线及其搭接节点的形貌表征

2.3.2 银纳米线的表面成分分析

2.3.3 银纳米线薄膜的导电性测量

2.3.4 银纳米线薄膜的透光性测量

2.3.5 银纳米线薄膜的抗弯折性测试

2.3.6 银纳米线薄膜的电磁屏蔽性能测试

第3章银纳米线的合成及其图案制备研究

3.1 引言

3.2 银纳米线的多元醇法合成

3.2.1 银纳米线的生长过程分析

3.2.2 银纳米线合成过程的影响因素

3.2.3 银纳米线尺寸对透明导电膜性能的影响

3.3 银纳米线网格图案层的透明导电性能模拟

3.3.1 模拟计算思路

3.3.2 不同网格结构的模拟结果及分析

3.4 银纳米线网格图案层的刻蚀/转印法制备

3.4.1 网格形状对薄膜透明导电性的影响

3.4.2 网洞面积占比对薄膜透明导电性的影响

3.4.3 网格尺寸对薄膜透明导电性的影响

3.4.4 网格图案对薄膜柔性性能的影响

3.4.5 银纳米线网格图案对薄膜性能的影响机理

3.5 本章小结

第4章银纳米线搭接节点低温连接及其机理研究

4.1 引言

4.2 银纳米线搭接节点低温热压连接

4.2.1 热压处理对银纳米线形貌的影响

4.2.2 热压处理对银纳米线膜透明导电性能的影响

4.3 银纳米线搭接节点室温电解质溶液处理

4.3.1 电解质溶液处理对银纳米线薄膜透明导电性的影响

4.3.2 电解质溶液处理对银纳米线节点形貌的影响

4.3.3 电解质溶液处理后银纳米线薄膜的性能研究

4.3.4 银纳米线搭接节点的室温连接机理

4.4 本章小结

第5章银纳米线复合薄膜的透明电磁屏蔽性能研究

5.1 引言

5.2.1 银纳米线薄膜的透明电磁屏蔽性能

5.2.2 后处理工艺对银纳米线薄膜透明屏蔽性能的影响

5.3 银纳米线网格图案的透明电磁屏蔽性能研究

5.3.1 单层银纳米线网格图案对薄膜透明电磁屏蔽性能的影响

5.3.2 多层银纳米线网格图案的透明电磁屏蔽性能研究

5.3.3 多层银纳米线网格图案的透明电磁屏蔽机理

5.4 透明电磁屏蔽膜的综合性能分析

5.5 本章小结

结论

参考文献

攻读博士学位期间发表的论文及其他成果

声明

致谢

个人简历