TMO掺杂In2O3半导体性能研究及场效应器件构筑

目录

引言

第一章 绪论

1.1薄膜晶体管的研究背景及意义

1.2薄膜晶体管的应用

1.2.1薄膜晶体管在LCD中的应用

1.2.2薄膜晶体管在OLED中的应用

1.3本文主要研究内容及章节安排

第二章 薄膜晶体管的工作原理和制备技术

2.1 薄膜晶体管的基本结构和工作原理

2.1.1薄膜晶体管的结构

2.1.2薄膜晶体管的工作原理

2.1.3薄膜晶体管的主要性能参数

2.2 薄膜晶体管的制备技术

2.2.1射频磁控溅射

2.2.2脉冲激光沉积

2.2.3热蒸发

2.2.4静电纺丝技术

2.2.5溶液法

第三章 高性能增强型InTiO纳米纤维薄膜晶体管的研究

3.1 InTiO纳米纤维薄膜晶体管的研究背景及意义

3.2 InTiO纳米纤维薄膜晶体管的制备

1）前驱体溶液的制备

2）InTiO纳米纤维TFT的制备

3.3 InTiO纳米纤维的表征

3.3.1 InTiO纳米纤维的形貌分析

3.3.2 InTiO纳米纤维的XRD分析和TEM结果讨论

3.3.3 InTiO纳米纤维的XPS分析

3.4 InTiO纳米纤维薄膜晶体管的电学性质表征

3.5 本章小结

第四章 高性能双沟道层InZrO薄膜晶体管的制备与研究

4.1双沟道层InZrO薄膜晶体管的研究背景及意义

4.2 InZrO导电薄膜的制备和表征

4.2.1 InZrO导电薄膜的制备

4.2.2 InZrO导电薄膜的表征

4.3 双沟道层InZrO薄膜晶体管的制备和表征

4.3.1 双层InZrO薄膜晶体管的制备

4.3.2 双层InZrO薄膜晶体管的性能表征

4.4 本章小结

第五章 总结与展望

参考文献

攻读学位期间的研究成果

致谢