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第一章绪论
1.1氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT)
1.1.1 TFT的结构及工作原理
1.1.2 ZnO-TFT的研究现状
1.2半导体光电材料ZnO
1.2.1 ZnO的晶体结构和特性
1.2.2 ZnO薄膜的应用
1.2.3 ZnO薄膜的制备
1.3宽带隙绝缘材料AlN
1.3.1 AlN的晶体结构和特性
1.3.2 AlN薄膜的应用
1.3.3 AlN薄膜的生长
1.4本课题的研究内容和特色
参考文献
第二章薄膜的制备及性能测试
2.1溅射镀膜的基本原理
2.1.1辉光放电和溅射机理
2.1.2溅射特性
2.1.3溅射过程
2.1.4射频磁控反应溅射原理
2.2射频磁控溅射系统及工艺流程
2.2.1射频磁控溅射系统
2.2.2薄膜制备的工艺流程
2.3薄膜的性能测试
2.3.1薄膜的结构分析
2.3.2薄膜的表面形貌分析
2.3.2薄膜的光学性质测量
参考文献
第三章AlN薄膜的制备及结构和光学特性的研究
3.1 AlN薄膜的制备
3.2 AlN薄膜结构性能测试与分析
3.2.1工艺参数对AlN薄膜结晶性能的影响
3.2.2缓冲层对AlN薄膜微结构的影响
3.3 AlN薄膜的光学特性
3.3.1 AlN薄膜的透射光谱
3.3.2 AlN薄膜的红外吸收谱
3.3.3 AlN薄膜的喇曼光谱
参考文献
第四章ZnO薄膜的制备及结构和光学特性的研究
4.1 ZnO薄膜的制备
4.2 ZnO薄膜结构性能测试与分析
4.2.1工艺参数对ZnO薄膜结晶性能的影响
4.2.2 ZnO薄膜的表面形貌
4.3 ZnO薄膜的透射光谱
参考文献
第五章总结与展望
5.1对已完成工作的总结
5.2存在的问题与发展方向
5.2.1关于改进溅射工艺的建议
5.2.2 ZnO/AlN复合薄膜的制备及物理性能的测试
硕士期间完成的论文
致谢