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目录
第一章 绪论
1.1 本课题的背景及研究意义
1.2 国内外研究现状
1.3 本论文的研究目的和主要内容
第二章 非晶硅反熔丝薄膜的制备原理与表征参数
2.1 非晶硅的原子结构和能带结构
2.2 非晶硅的制备方法
2.3表征参数
2.4 电学测量
2.5 小结
第三章 非晶硅反熔丝制备工艺参数的研究
3.1 上电极面积和形状对非晶硅反熔丝性能的研究
3.2 工艺参数影响非晶硅反熔丝性能的研究
3.3 上电极面积、形状及工艺参数的总结与分析
3.4 非晶硅反熔丝薄膜中氢含量对击穿特性的影响
3.5 小结
第四章 存储器电路原理图、版图及仿真
4.1 存储器结构
4.2 反熔丝存储单元结构及工作原理
4.3 存储器电路设计
4.4 电路的版图设计
4.5 小结
第五章 结论
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间取得的成果
电子科技大学;