声明
摘要
图目录
表目录
主要符号表
1 绪论
1.1等离子体概述
1.2等离子体在微电子工业中的应用
1.3容性耦合等离子体源的发展
1.3.1单频容性耦合等离子体源
1.3.2双频容性耦合等离子体源
1.3.3脉冲调制容性耦合等离子体的研究
1.3.4电非对称效应的研究
1.3.5直流叠加射频容性耦合等离子体的研究
1.4容性耦合等离子体中的放电模式
1.5本文研究内容与安排
2实验装置与研究方法
2.1 实验装置
2.2直流自偏压的产生及测量
2.3等离子体诊断方法
2.3.1 相分辨发射光谱法测量激发速率
2.3.2发卡探针测量电子密度
2.4 PIC/MCC模型介绍
2.5本章小结
3单频容性耦合CF4等离子体中的放电模式
3.1 引言
3.2研究方法与参数选择
3.3氖气激发态(Ne2p1)有效衰减率的测量
3.4结果与讨论
3.4.1 CF4气体放电中的放电模式
3.4.2外界参数对放电模式的影响
3.5本章小结
4二次电子对单频容性耦合等离子体放电模式的影响
4.1 引言
4.2二次电子对Ne气放电的影响
4.3二次电子对CF4气放电的影响
4.4本章小结
5 双频容性耦合心等离子体中的放电模式
5.1 引言
5.2电压的测量与PROES测量中谱线的选择
5.2.1电压的测量
5.2.2 PROES测量中谱线的选择
5.3结果与讨论
5.3.1 Ar等离子体中的放电模式
5.3.2外界参数对放电模式的影响
5.4本章小结
6结论与展望
6.1结论
6.2创新点
6.3展望
参考文献
攻读博士学位期间科研项目及科研成果
致谢
作者简介