声明
第一章 绪论
1.1 石墨烯的概述
1.1.1 石墨烯的基本结构
1.1.2 石墨烯的性质
1.2石墨烯的制备、转移、表征及相关研究
1.2.1 石墨烯的制备
1.2.2石墨烯的转移
1.2.3石墨烯的表征
1.2.4石墨烯的应用前景
1.3 石墨烯的场致发射
1.3.1 场致发射原理
1.3.2场致发射性能的测试
1.3.3场致发射阴极材料发展历程
1.3.4 石墨烯的场致发射
1.3.5 石墨烯与其他纳米材料复合场发射体
1.4 论文的选题和研究内容
1.4.1 论文的选题
1.4.2论文的研究思路
1.4.3论文的主要研究内容
参考文献
第二章 基于热CVD方法的石墨烯场发射阴极的改性与结构优化
2.1热CVD法生长石墨烯概述
2.1.1 镍基底上热 CVD法生长石墨烯
2.1.2 铜基底上热 CVD法生长石墨烯
2. 2基于热CVD法制备石墨烯
2.2.1 实验原料与设备
2.2.2 热CVD法生长石墨烯的工艺
2.2.3 石墨烯的转移
2. 3石墨烯的表征与场发射性能测试
2.3.1 石墨烯的形貌及其微观结构的表征
2.3.2 基于热CVD法生长的石墨烯场发射性能测试
2.3.3氮掺杂石墨烯降低功函数
2.3.4碳纳米管支撑石墨烯提高场增强因子
2.4 本章小结
参考文献
第三章 基于RF-PECVD法制备缺陷石墨烯及其场发射性能研究
3.1 PECVD法制备石墨烯生长机制
3.2 基于RF-PECVD法石墨烯的制备
3.2.1 实验设备
3.2.2 石墨烯的制备工艺
3.3 石墨烯的表征与性能测试
3.3.1 石墨烯的形貌表征
3.3.2 基于拉曼光谱分析生长参数对石墨烯结构的影响
3.3.3 RF-PECVD法制备石墨烯的生长机制讨论
3.3.4 基于RF-PECVD法生长的石墨烯场发射性能测试
3.4 本章小结
参考文献
第四章 新型花瓣状结构石墨烯的制备及其场发射性能研究
4.1目前石墨烯场发射存在的问题
4.2铜膜的去润湿现象(dewetting of Cu film)
4.3铜膜生长石墨烯的研究进展
4.4 铜膜热CVD法生长花瓣型石墨烯
4.4.1 磁控溅射制备铜膜催化剂
4.4.2 石墨烯的生长工艺
4.4.3 扫描电子显微镜分析
4.4.4拉曼光谱分析
4.4.5 生长机制讨论
4.4.6场发射性能测试与分析
本章小结
参考文献
第五章 石墨烯基纳米材料复合阴极的制备与场发射性能研究
5.1石墨烯基复合材料的研究
5.2 石墨烯-氧化锌复合阴极的制备及其场发射性能研究
5.2.1 石墨烯-氧化锌复合阴极的制备
5.2.2 石墨烯-氧化锌复合阴极的表征
5.2.3 石墨烯-氧化锌复合阴极场发射性能研究
5.3石墨烯与碳纳米管复合式阴极
5.4 基于湿法转移法制备的石墨烯与碳纳米管复合式阴极
5.4.1 碳纳米管阵列与石墨烯的生长工艺
5.4.2 碳纳米管与石墨烯的转移过程
5.4.3石墨烯-碳纳米管复合阴极的表征
5.4.4石墨烯-碳纳米管复合阴极场发射性能研究
5.5 本章总结
本章参考文献
第六章 总结与展望
6.1 总结
6.2 展望
致谢
博士学位攻读期间主要研究成果
