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声明
第一章引言
1.1纳米材料及其制备方法
1.2粒子束溅射的应用
1.3半导体表面纳米点结构的研究
第二章离子束溅射致硅硅量子点的制备和形貌测量
2.1离子束溅射实验系统
2.2样品制备过程
2.3 Bradley-Harper模型
2.4 考虑Ehrlich-Schwoebel势垒的Ehrlich-Schwoebel模型
2.5小结
第三章离子束溅射致硅纳米点的电学性质研究
3.1 EFM原理介绍及实验方法介绍
3.2 Bradley-Harper模型下的离子束溅射致硅纳米点电学性质研究
3.3 Ehrlich-Schwoebel模型下的离子束溅射致硅纳米点电学性质研究
3.4 C-AFM原理介绍及研究
3.5离子束溅射致硅纳米点的电学性质测试的计算模拟
3.6小结
第四章硅纳米点引导腐蚀生成硅量子线结构
5.1样品的制备
5.2样品的表征
5.3小结
第五章总结与展望
参考文献
附录
致谢