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第一章绪论
1.1研究背景
1.2超精密平面抛光技术概论
1.2.1超精密加工的定义
1.2.2化学机械抛光机理
1.2.3影响化学机械抛光的因素
1.3超精密平面CMP抛光研究现状
1.3.1CMP抛光技术研究现状
1.3.2超精密平面抛光装备研究现状
1.4存在问题
1.5主要研究内容与课题来源
1.5.1主要研究内容及课题来源
1.5.2论文体系结构及各章简介
第二章超精密双面抛光机虚拟仿真研究策略
2.1虚拟样机技术概论
2.1.1虚拟样机的定义
2.1.2虚拟样机的技术特点
2.1.3虚拟样机技术应用现状
2.2 PE-1型超精密双面抛光机简介
2.2.1双面抛光机结构介绍
2.2.2抛光过程及原理
2.2.3技术特点
2.3双面抛光机虚拟仿真研究策略
2.3.1研究的理论假设
2.3.2研究的软件支撑平台
2.3.3技术路线
2.4本章小结
第三章抛光机构物理模型分析与虚拟样机建构
3.1抛光机构动力学分析及数学模型建立
3.1.1行星轮系与工件的运动分析
3.1.2工件受力分析
3.1.3工件动力学模型的建立
3.2抛光机构的分析与简化
3.2.1抛光机构的简化
3.2.2抛光机构的自由度计算
3.3抛光机构实体建模实现
3.3.1三维实体建模与装配过程
3.3.2三维模型的导出
3.4抛光机构虚拟样机的建立
3.4.1虚拟样机建模仿真的基本步骤
3.4.2三维实体模型的导入与修正
3.4.3双面抛光机虚拟样机的定义
3.4.4虚拟样机建模检查
3.5本章小结
第四章抛光机构样机模型验证与动态仿真分析
4.1仿真分析前的准备工作
4.2抛光机构样机模型的验证技术
4.2.1定性分析验证
4.2.2定量分析验证
4.3虚拟样机模型完善
4.4行星轮系输入转速与工件运动特性的仿真研究
4.4.1仿真试验方案
4.4.2输入转速与工件角速度关系的仿真研究
4.4.3仿真结果分析
4.5工件表面各点运动的仿真研究
4.5.1仿真试验方案
4.5.2表面各点运动关系的仿真研究
4.5.3仿真结果分析
4.6虚拟样机参数化设计
4.6.1参数化设计概论
4.6.2抛光工艺输入变量的参数化
4.7本章小结
第五章抛光工艺参数的优化仿真研究
5.1双面抛光机工艺参数优化评价指标的提出
5.2基于Preston模型的双面抛光机去除率模型分析
5.2.1抛光去除率模型简介
5.2.2抛光去除量的建模与分析
5.3工件运动轨迹的仿真分析
5.3.1运动轨迹与材料去除的均匀性
5.3.2工件运动轨迹仿真分析
5.4抛光工艺参数的优化仿真研究
5.4.1基于抛光去除率与去除均匀性的优化设计策略
5.4.2工艺参数的优化仿真
5.4.3优化仿真结论
5.5工艺参数优化的应用实例
5.5.1抛光试验方案
5.5.2抛光质量检测方法
5.5.3试验结论
5.6本章小结
第六章总结与展望
6.1本论文工作总结
6.2有待进一步解决的关键技术问题
6.3研究展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表论文
致 谢