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ウェーハ加工用超精密平面ポリッシ盤「32BF-DSP」による超精密·高付加価値研磨加工

机译:通过用于晶片加工的超精密平面抛光机“ 32BF-DSP”进行超精密,高附加值的抛光处理

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摘要

古来、磨く作業の中でラップ·ポリッシは常に行われてきており、我々にもなじみ深いものとなっているが、現在の最先端研磨加工としてまた見直されてきている。300mmあるいは450mmシリコンウェーハなどの大径基板加工でも、より高精度が求められているが、これまでの機械を用いて単に1キャリア内に1枚ワークを入れた形では高精度加工が難しく、新しい発想によるラップ·ポリッシ盤を用いた加工法を追求してきている。大型機械の定盤、パッドの精度維持法、作業のしやすさ、ポリッシ軌跡の研究、スラリーの廻り方、キャリアの作り方などを工夫して行う必要があり、新設計の研磨加工機械が望まれてきた。大型ゆえの機械的な難しさと高精度を出すための加工法について、当社でも最先端研磨盤のメーカーとして新しい発想で加工ができるポリッシ盤の開発·改良を試みている。本稿では、これまでの通常4ウェイポリッシ盤の良さを残しつつ、新発想の大型平面高精度研磨盤を開発し、実際の生産に寄与し始めたので概要と課題を紹介する。
机译:自古以来,包膜抛光一直在抛光工作中进行,并已为我们所熟悉,但作为当前最先进的抛光工艺,它又被重新审视。加工300 mm或450 mm硅片等大直径基板也需要更高的精度,但是如果仅使用传统机器将单个工件简单地放置在一个托架中,则很难进行高精度加工。我们一直在根据这种想法寻求一种使用抛光纸的加工方法。有必要设计一种大型机器的压板,保持抛光垫精度,工作简便性,研究抛光轨迹,旋转浆料的方式,制造载体的方法等,并且需要一种新设计的抛光机。我来了。作为尖端抛光机的制造商,我们正在尝试开发和改进一种抛光机,该抛光机因其较大的尺寸和获得高精度的加工方法而具有机械难度方面的新思路。本文在保留了传统四向抛光机优点的同时,开发了具有新概念的大型平面高精度抛光机,并已开始为实际生产做出贡献,因此我们将介绍其概述和问题。

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