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亚百纳米超分辨光学显微成像新方法与技术的研究

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摘要

1 绪论

1.1 光学显微技术的发展

1.2 超分辨光学显微术的兴起

1.3 本论文研究内容

1.4 本章小结

2 基于PSF工程的超分辨显微新方法

2.1 PSF工程原理

2.1.1 光学显微成像原理

2.1.2 PSF工程原理

2.2 PSF工程各技术概况

2.2.1 激发PSF工程

2.2.2 探测PSF工程

2.2.3 小孔工程

2.3 实验对比图

2.4 本章小结

3 CW-STED差分显微术

3.1 理论分析

3.2 系统装置

3.3 仿真

3.3.2 OTF分析

3.3.3 两个颗粒的仿真

3.4 实验结果

3.4.1 荧光颗粒

3.4.2 细胞微管

3.5 实验结果讨论

3.5.1 差分系数的讨论

3.5.2 同一区域不同差分系数的讨论

3.5.3 不同区域不同差分系数的讨论

3.6 本章小结

4 移频超分辨显微成像机理

4.1 光学显微成像的傅里叶分析

4.2 相干成像系统下的移频技术

4.2.1 原理

4.2.2 典型技术

4.3 非相干成像系统下的移频技术

4.3.2 典型技术

4.4 本章小结

5 饱和光斑照明的傅域层叠显微术

5.1 原理

5.2 仿真结果

5.2.1 分辨率

5.2.2 抗噪力

5.2.3 相差矫正能力

5.2.4 光斑的可替代性

5.3 本章小结

6 总结与展望

6.1 总结

6.2 展望

参考文献

作者简历

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摘要

光学显微成像技术由于其高分辨率、实时成像、样品无损、操作方便等优点被广泛应用于生物、医疗观测中。而由于光学衍射极限的存在,光学显微镜的成像分辨率始终被限制在半个波长左右最近数十年里,科研人员通过坚持不懈的努力开启了超分辨显微镜术的大门,发展出了许多技术打破衍射极限,实现了超分辨成像。然而,超分辨显微术仍存在着许多问题和不足。在众多的超分辨技术中,点扩散传递函数工程和移频技术是两类突破光学衍射极限的机理。本文分别对两类机理做了理论分析和技术概述,并以两类机理为基础,提出两种新型的超分辨显微方法,实现了亚百纳米的成像分辨率。
  基于点扩散函数工程的技术原理,本文提出了一种新型的CW-STED(连续光波-受激辐射损耗)差分显微术。CW-STED显微术的分辨率由损耗光的功率决定。功率越高,分辨率越高,但同时给样品的损害越大。本章中我们提出了一种新型的超分辨显微术,CW-STED差分显微术,将CW-STED技术和差分技术相结合,可以在功率一定条件下,提高CW-STED的分辨率和对比度,实现亚百纳米超分辨。该技术分辨在仿真和实验中(荧光颗粒和细胞微管)得到验证。相比于其它超分辨方法,该方法更加简便易行,并且避免了激光的高功率要求。
  基于移频原理,本文提出了一种荧光成像的超分辨新方法,将光斑照明、荧光分子的饱和特性以及傅域层叠算法相结合,得到超分辨显微图像,我们称之为饱和光斑照明的傅域层叠显微术(Saturated pattern illuminated Fourier ptychography,SpiFP)。该显微术可以在照明光接近于饱和阈值时,获得4倍于宽场的分辨率,实现亚百纳米分辨率。提高光强可以获得更高的分辨率提升。我们将该显微术与饱和结构光照明显微术(SSIM)做了比较,其结果证明我们的方法具有更好的抗噪能力,相差矫正能努力和光斑的可选择性。这个方法为非线性照明显微术提供了另一种实现方式,对在宽场成像下观察生物成像有很大的应用前景。

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