摘要
Abstract
引言
一、透射电镜的原理及成像
透射电镜的原理
电子透镜像的特征
透射电镜的结构
TEM的成像
质厚衬度方法
衍射衬度方法
高分辨率相位衬度电子显微像(HREM)
二、缺陷的结构与成像
缺陷的结构与性质
缺陷的成像
位错成像
层错成像
弱束成像
三、TEM对硅缺陷的结构观察与分析
位错及层错的TEM分析
Si-SiO2界面结构与缺陷
硅中的沉积
工艺过程中缺陷的结构变化
等厚条纹和等倾条纹
结果与讨论
附录
一、透射电镜的制样技术
二、振幅位相图的原理
三、TEM的定标
参考文献
致谢
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