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章莉;
复旦大学;
二维矩阵码; 编码纠错; 掩模方案;
机译:Selete的EULE掩模掩模缺陷减少技术扩展到EUVL掩模的光掩模缺陷检查和修复技术即使掩模尺寸为100 nm,也可以实现高精度的检查图像对比度
机译:容错和容错量子计算方案中的容错和权衡
机译:掩模行业的最新趋势挑战了光刻技术的使用寿命,光掩模发展了12年,掩模市场下降了4%,内部生产比例已扩大到46%。
机译:有效的EUVL掩模清洗技术解决方案,用于掩模制造和厂内掩模维护
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:具有增强效率的纳米交叉开关架构的新型容错方案
机译:Covid-19大流行期间专利数据库中的掩模技术方案
机译:高功率连续型直线加速器的特殊设计问题和解决方案。
机译:二维条码自动售货机,二维条码自动售货机和二维条码自动售货系统
机译:形成核心和外围门的方法,包括两个关键的步骤以在核心区域形成硬掩模,包括在光刻技术的解决方案极限范围内可以达到的临界尺寸
机译:具有用于反射层的EUV光刻技术,用于反射掩模坯料的EUV光刻技术,用于反射掩模的EUV光刻技术,以及具有反射层的衬底的制造方法。
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