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张吉宏;
复旦大学;
等离子体; 干法刻蚀; 低介电常数材料; RC延迟; 侧壁损伤;
机译:JSR低介电常数,低介电损耗的正切绝缘材料用于高频印刷电路板
机译:开发氟系低介电常数绝缘材料:千叶工厂批量生产的旭硝子
机译:氟基低介电常数绝缘材料的发展:朝鲜玻璃和千叶植物的大规模生产
机译:CF 4 inf>等离子体与Cl 2 inf>等离子体干法刻蚀栅凹型常关GaN基MISHEMT的比较
机译:通过等离子体增强的含硅的低介电常数碳氟化合物薄膜增强了化学气相沉积。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:21世纪初的西班牙刑事诉讼程序。根据打击有组织犯罪和起诉腐败犯罪,诊断其主要问题和提出可能的解决办法
机译:转子热原子和分子半导体干法刻蚀机理
机译:等离子体干法刻蚀方法和等离子体干法刻蚀装置
机译:具有低介电常数和低损耗特性的低介电常数,低介电常数的聚(P-二甲苯基)基聚合物,绝缘材料,印刷电路板和使用相同的功能元件
机译:利用高密度等离子体源的干法刻蚀方法及干法刻蚀装置
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