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摘要
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符号对照表
缩略语对照表
第一章 绪论
1.1 TFET的工作机理
1.2 TFET器件所面临的挑战
1.2.1 TFET器件的开态电流受限因素
1.2.2 TFET器件的双极效应
1.2.3 TFET器件的SS性能退化因素
1.3 TFET的发展现状
1.3.1 新结构TFET的优化
1.3.2 新材料TFET的优化
1.3.3 隧穿机理TFET的优化
1.4 本文的主要工作和内容安排
第二章 双源TFET的结构和性能分析
2.1 双源U型TFET的提出
2.1.2 双源U型栅结构分析
2.2 双源TFET器件性能分析
2.2.1 双源TFET器件的结构分析
2.2.2 双源TFET器件的电容分析
2.2.1 锗硅在源区对U-TFET器件电学特性的影响
2.2.2 各区掺杂浓度对U-TFET器件性能的影响
2.2.3 Vds对U-TFET器件电学性能的影响
2.2.4 界面陷阱对双源U-TFET器件Ⅳ特性的影响
2.2.5 界面陷阱对双源U-TFET电容的影响
2.3 本章小节
第三章 隧穿介质型TFET的结构和性能分析
3.2 TD-TFET器件的物理模型分析
3.3 TD-TFET侧墙对势垒隧穿的影响
3.4 TD-TFET器件结构和电学特性分析
3.5 本章小结
第四章 三栅沟道绝缘EHB-TFET的结构和性能分析
4.1 EHB-TFET的结构分析
4.1.2 不同栅介质对器件的亚阈值特性的影响
4.2 锗硅在源区和沟道、掺杂浓度对TG-TFET电学特性的影响
4.2.1 锗硅在源区对器件电学特性的影响
4.2.2 锗硅在沟道对器件电学特性的影响
4.2.3 各区掺杂浓度,漏区长度的变化和Underlap距离对器件性能的影响
4.3 Back-Gate对EHB-TFET器件电学性能的影响
4.4 Underlap长度对EHB-TFET器件电学特性的影响
4.5 EHB-TFET的栅泄漏电流
4.6 本章小节
第五章 陷阱辅助隧穿对TFET的影响
5.1 TAT对TFET器件的影响
5.2 栅泄漏电流对TFET器件的影响
5.3 温度对TFET的影响
5.4 本章小节
第六章 总结和展望
参考文献
致谢
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