声明
摘要
第一章 绪论
1.1 研究背景
1.1.1 基于经典浮栅结构的Flash及其发展瓶颈
1.1.2 新型非挥发性存储器
1.2 阻变存储器及其研究现状
1.3 论文选题意义
第二章 阻变存储器制备工艺及测试分析
2.1 阻变材料体系
2.1.1 固态电解质材料
2.1.2 二元金属氧化物
2.2 导电细丝主导的阻变机制
2.2.1 ECM机制
2.2.2 VCM机制
2.3 氧基阻变存储器的制备
2.4 电学性能测试及分析
2.4.1 器件的初始状态及Forming过程
2.4.2 SET过程
2.4.3 RESET过程
2.4.4 循环测试
2.4.5 器件性能指标
第三章 基于氧离子Hopping理论的阻变机理研究
3.1 电场对阻变过程的影响
3.2 电场控制下的基于氧离子Hopping理论的RESET模型建立
3.3 实验验证
3.4 温度对t-F关系的影响
第四章 RPAM器件耐久性失效机理研究
4.1 RRAM器件耐久性失效概述
4.2 基于HfO2器件的耐久性失效机理分析
4.2.1 氧离子在Ti层流失
4.2.2 器件的负向击穿
4.2.3 失效器件修复实验
4.3 器件耐久性能改善方法
第五章 结论与展望
5.1 结论
5.2 对未来工作的展望
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间发表的论文
山东大学;