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第一章绪论
第二章实验设备及原理
第三章矩形平面靶磁场分析
第四章薄膜厚度分布的模拟
第五章结论
参考文献
致谢
邢丽芬;
东北大学;
磁控溅射; 磁场; 有限元模拟; 薄膜; 靶基距; 厚度分布;
机译:基于粒子模拟的矩形平面直流磁控管末端区域磁场改善
机译:矩形平面靶沉积薄膜厚度均匀性的数值分析
机译:模拟低重力环境下矩形外壳中熔化和凝固的实验研究:固体厚度的超声测量。
机译:同一平面上一个或多个导线矩形环产生的磁场方程
机译:矩形平面溅射靶沉积的薄膜厚度均匀性研究
机译:在低音和超音速下的低宽比翼的提升,拖曳和倾斜时刻 - 矩形,后背和三角形平面形式的三个纵横比2的比较,包括厚度分布的影响
机译:制造具有几纳米厚度的薄膜组件以加速激光诱导的离子的毫米级薄膜,使用相同厚度的薄膜靶的制造方法及其制造方法
机译:用于高密度DRAM的沟槽存储电容器-使用具有(100)壁和底部平面的矩形沟槽来改善氧化层厚度和阈值控制,而芯片的方向平行于(110)平面
机译:薄膜磁力计-具有薄铁磁薄膜和线圈等,可在薄膜平面内的成分提供交替的辅助磁场
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