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石中兵; 童洪辉; 赵嘉学;
核工业,西南物理研究院,四川,成都,610041;
等离子体; 磁控溅射; 矩形靶; 优化设计; 刻蚀;
机译:磁控溅射系统的开发,该系统在靶附近具有非常强的磁场
机译:靶对置直流平面磁控溅射中AIM膜特性的磁场依赖性
机译:Zr和O对磁控溅射TiC _(0.5)+ ZrO _2和(Ti,Zr)C _(0.5)+ ZrO _2复合靶的磁控溅射沉积TiC(N)涂层结构和性能的影响
机译:具有可控靶腐蚀模式的矩形直流磁控溅射系统设计
机译:用于强磁场的圆形和矩形增强Bi2Sr2CaCu 2O8 + X线中的临界电流密度的机械和电气特性
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:粗糙矩形板与多孔矩形板表面粗糙度和磁场的数值研究
机译:等离子体诊断研究过程变量对射频磁控溅射过程中从(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类的影响。
机译:在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译:控制磁控溅射装置的装置和方式无效,该磁控溅射装置对暴露于单独放电的靶具有单独的磁场关闭
机译:具有分布磁场的磁控溅射-靶-靶组合
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