声明
摘要
图目录
表目录
主要符号表
1 绪论
1.1 硅烯
1.1.1 硅烯的历史、结构和稳定性
1.1.2 硅烯的基本性质
1.1.3 硅烯的实验合成进展
1.1.4 硅烯的理论研究进展
1.1.5 硅烯的应用前景
1.2 硼烯
1.2.1 硼烯的提出与理论预测
1.2.2 硼烯的实验合成
1.3 本文的研究意义
1.4 本文主要研究思路
2 理论基础
2.1 密度泛函理论
2.1.1 理论背景
2.1.2 Hohenberg-Kohn定理
2.1.3 Kohn-Sham假设
2.2 交换关联泛函
2.2.1 局域密度近似
2.2.2 广义梯度近似
2.3 VASP软件包简介
3 Ag(111)表面上外延硅烯中的点缺陷
3.1 引言
3.2 计算方法
3.3 结果与讨论
3.3.1 4×4硅烯中点缺陷的结构与其STM对应关系
3.3.2 √13×√13硅烯中点缺陷的结构与其STM对应关系
3.3.3 点缺陷在外延硅烯中的扩散行为
3.3.5 基于缺陷浓度解释不同硅烯超结构的实验表象
3.4 本章小结
4 绝缘衬底对硅烯电子性质的影响
4.1 引言
4.2 计算方法
4.3 结果与讨论
4.3.1 硅烯与衬底间的范德瓦尔斯相互作用稳定硅烯的几何结构
4.3.2 硅烯和衬底间的弱作用导致电子态密度的简单叠加
4.3.3 功函数是衬底对硅烯电子性质影响的关键因素
4.4 本章小结
5 碱金属插层双层硅烯
5.1 引言
5.2 计算方法
5.3 结果与讨论
5.3.1 双层硅烯中狄拉克锥的缺失
5.3.2 碱金属插层实现狄拉克锥的修复
5.4 本章小结
6 硼烯在Cu(111)表面上生长的预测
6.1 引言
6.2 计算方法
6.3 结果与讨论
6.3.1 硼单层在Cu(111)表面上可以稳定存在
6.3.2 Cu(111)表面上硼团簇的结构
6.3.3 硼团簇边界原子与金属表面间较强的相互作用
6.3.4 硼烯在Cu(111)表面上的生长行为
6.4 本章小结
7 结论与展望
7.1 结论
7.2 创新点
7.3 展望
参考文献
攻读博士学位期间科研项目及科研成果
致谢
作者简介