声明
1 绪 论
1.1 PIII技术及其应用
1.1.1等离子体浸没离子注入技术
1.1.2 PIII技术的应用
1.2 PIII离子鞘层演化的研究方法
1.2.1解析方法
1.2.2流体动力学方法
1.2.4 PIC方法
1.3 PIII介质材料鞘层特性模拟研究现状
1.4本文研究内容
2 PIII介质材料鞘层演化的一维流体模型
2.1鞘层理论
2.2 无碰撞鞘层冷流体力学模型
2.3 碰撞鞘层冷流体力学模型
2.4 二次电子发射效应
2.5 数值求解方法
2.6本章小结
3模拟结果及讨论
3.1 鞘层内基本物理量的演化
3.2 脉冲参数的影响
3.2.1脉冲幅值的影响
3.2.2脉冲上升沿的影响
3.2.3脉冲下降沿的影响
3.3 介质靶厚度的影响
3.4 气压的影响
3.5 本章小结
结论
参考文献
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢