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摘要
图目录
表目录
主要符号表
1 绪论
1.1 研究背景与意义
1.2半导体核辐射探测器的工作原理
1.3核辐射探测器对半导体材料的要求
1.4 GaN基本性质
1.5 GaN基中子探测器国内外研究进展
1.6本文主要研究思路及内容
2 半导体中子探测机理及理论仿真
2.1 引言
2.2 中子与GaN的相互作用
2.3中子仿真模型
2.4 alpha粒子在转换层和GaN薄膜中的射程
2.5本章小结
3 GaN薄膜生长及器件制备
3.1 引言
3.2器件结构外延生长
3.3 GaN基pin薄膜的材料表征
3.4 GaN的欧姆接触/肖特基介绍
3.5器件制备
3.6本章小结
4 alpha粒子探测器的测试
4.1 引言
4.2电学特性测试
4.3 alpha粒子能谱测试
4.4高温特性
4.5耐辐照特性
4.6本章小结
5 中子探测器的制备及测试
5.1 引言
5.2慢化剂
5.3中子转换层制备
5.4 241Am-Be快中子测试
5.5本章小结
6结论与展望
6.1结论
6.2创新点
6.3展望
参考文献
攻读博士学位期间科研项目及科研成果
致谢
作者简介