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GaN基中子探测器的制备与性能研究

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表目录

主要符号表

1 绪论

1.1 研究背景与意义

1.2半导体核辐射探测器的工作原理

1.3核辐射探测器对半导体材料的要求

1.4 GaN基本性质

1.5 GaN基中子探测器国内外研究进展

1.6本文主要研究思路及内容

2 半导体中子探测机理及理论仿真

2.1 引言

2.2 中子与GaN的相互作用

2.3中子仿真模型

2.4 alpha粒子在转换层和GaN薄膜中的射程

2.5本章小结

3 GaN薄膜生长及器件制备

3.1 引言

3.2器件结构外延生长

3.3 GaN基pin薄膜的材料表征

3.4 GaN的欧姆接触/肖特基介绍

3.5器件制备

3.6本章小结

4 alpha粒子探测器的测试

4.1 引言

4.2电学特性测试

4.3 alpha粒子能谱测试

4.4高温特性

4.5耐辐照特性

4.6本章小结

5 中子探测器的制备及测试

5.1 引言

5.2慢化剂

5.3中子转换层制备

5.4 241Am-Be快中子测试

5.5本章小结

6结论与展望

6.1结论

6.2创新点

6.3展望

参考文献

攻读博士学位期间科研项目及科研成果

致谢

作者简介

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摘要

中子不带电,它与原子核相互作用时不受库仑势力的阻挡。先进的中子探测技术是开展精密中子物理实验的基础,在核反应堆、新能源技术、核武器研究和设计等领域发挥着重要作用。然而,中子探测器在中子探测技术中是最前端器件且最为关键部件之一。目前,基于核反应法制备的第一代6Li夹心半导体硅中子探测器具有功耗低、线性响应范围宽、响应时间快、n/γ分辨率好、体积小、工作电压低等优点被广泛采用,在许多应用领域替代3He正比计数管、BF3正比计数管和闪烁体探测器。但是,在中子测井、油气勘探、地下探矿、核电站放射性检测等领域,中子探测器面临高温或强辐射的恶劣工作环境。这些应用领域都对半导体中子探测器提出了新的性能要求。由于第三代宽禁带氮化镓材料具有禁带宽度大、位阈能大、高击穿电场、高电子饱和速率、高热导率、高击穿电场和良好的化学稳定性等优异特性,基于GaN基的中子探测器具有耐辐照、耐高温、线性响应范围宽、响应时间快、n/γ分辨率好、体积小、工作电压低等优点,非常适合作为新一代半导体中子探测器,具有很好的应用前景。本文根据中子与GaN的相互作用和探测机理,围绕GaN器件的制备工艺和中子转换层的性质及特点,设计并制备了GaN基中子探测器,并对其性能和相关物理机制进行了系统研究。本文主要研究内容和结果如下:
  (1)利用SRIM及MCNP软件模拟仿真了alpha粒子在GaN材料中的射程、电荷输运特性、器件结构对电荷收集效率的影响,建立了alpha粒子探测器的仿真模型;仿真了不同厚度的6LiF转换层对中子转换效率的影响。根据理论仿真分析结果,设计了探测器的器件结构。利用MOCVD法在蓝宝石衬底上外延生长了GaN基pin结构,讨论了n和p型GaN的欧姆接触及肖特基接触,分析了界面态对欧姆接触及肖特基接触的影响;并且根据讨论结果,制备了pin结构alpha粒子探测器。根据制备的pin探测器,测试了探测器的电学性能,包括I-V、C-V;利用241Am源,测试了器件在不同电压不同面积下的电荷收集效率,alpha能谱。测试结果表明,由于GaN存在着很强的极化效应,在偏压为0V时,探测器的漏电流最小,能谱分辨率最好。
  (2)GaN作为第三代宽禁带直隙半导体材料,应用在核辐射探测方面的主要优势是耐高温和耐辐照。本文开展了GaN基pin探测器的高温测试,测试温度范围从290K到475K。测试结果表明,当温度升高到475K时,探测器的FWHM变化很小。由此说明,GaN基核辐射探测器能够工作在475K以上的环境中。本文还开展了高能10MeV电子辐照对GaN基pin alpha粒子探测器性能影响的实验研究。采用不同注入剂量的电子,对探测器的电学性能、alpha粒子能谱等特性进行了详细的测试和分析。研究结果表明,当注入剂量大于100KGy时,器件的性能开始退化,电荷收集效率也开始变差。
  (3)基于核反应法探测中子的原理,针对中子转换层的关键材料6LiF,模拟仿真了不同厚度对中子转换效率的影响;结合目前转换层的薄膜制备方法的难点,重点开展了热蒸发和溶胶法制备6LiF薄膜工艺的研究,从表面形貌、晶体质量和薄膜生长速率方面,探讨了不同工艺条件下的制备方法。研究结果表明,该法工艺简单,制备的薄膜性能较好。结合制备的6LiF中子转换层,利用241Am-Be快中子中子源开展了GaN基pin中子探测器的快中子的测量实验研究,利用高密度聚乙烯将快中子转换为热中子,采用脉冲计数,实现了中子探测。实验结果表明,当6LiF的厚度为16.9μm,聚乙烯厚度为7mm,反向偏压为-10V时,探测器的中子探测效率为1.7%。
  通过对GaN基中子探测器的理论分析、模拟仿真、器件结构设计、外延生长及表征、alpha粒子探测性能、耐高温和耐辐照性能测试、6LiF制备及快中子探测性能等关键问题进行了有针对性的研究。扩展了GaN基核辐射探测器的应用领域,在国际上首次成功的制备了基于6LiF的GaN基中子探测器。基于以上研究工作,证明了GaN材料作为核辐射探测器具有耐高温和耐辐照优势,可以开展GaN基核辐射探测器在工业中的应用。

著录项

  • 作者

    朱志甫;

  • 作者单位

    大连理工大学;

  • 授予单位 大连理工大学;
  • 学科 微电子学与固体电子学
  • 授予学位 博士
  • 导师姓名 杜国同;
  • 年度 2018
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 中文
  • 中图分类 TL816.3;
  • 关键词

    中子探测器; 氮化镓; 制备工艺; 中子转换层;

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