声明
摘要
第一章 绪论
1.1 研究背景及意义
1.2 国内外研究现状
1.3 论文研究内容和设计指标
1.4 论文组织结构
第二章 SiGe BiCMOS工艺介绍
2.1 集成电路制造工艺种类
2.1.1 双极晶体管
2.1.2 场效应晶体管
2.2 SiGe HBT模型SiGe BiCMOS器件模型和性能参数
2.2.1 SiGe HBT模型
2.2.2 FET模型
2.2.3 集成电阻模型
2.2.4 可变电容模型
第三章 延时单元与延时锁定环路基本理论
3.1 延时单元分类
3.2 延时单元基本分析
3.3 基本的有源延时单元介绍
3.4 基本的无源延时单元介绍
3.5 延时锁定环路的基本理论
3.6 DLL数学模型
3.6.1 可变延时线的数学模型
3.6.2 鉴相器基本模型
3.6.3 电荷泵和环路滤波器基本模型
3.7 DLL的噪声分析
第四章 延时单元与延时锁定环路仿真与设计
4.1 延时单元设计
4.1.1 常见延时电路结构分析
4.1.2 gm-C延时电路
4.1.3 延时电路前仿真结果
4.2 延时锁定环路设计
4.2.1 乘法器的设计
4.2.2 V/I转化器设计
4.2.3 偏置电路设计
4.2.4 输入输出级电路
第五章 版图设计和测试结果
5.1 版图设计
5.1.1 版图设计中的非理想效应
5.1.2 版图匹配要求和参考源分布
5.1.3 电路版图
5.2 后仿真
5.3 测试结果
5.3.1 测试方案
5.3.2 测试仪器
5.3.3 具体测试步骤
5.3.4 测试结果和数据分析
第六章 总结与展望
6.1 总结
6.2 展望
参考文献
硕士阶段论文发表
致谢