无掩模光刻系统研究

摘要

本论文所提出的微尖端阵列无掩模光刻系统扩展了纳米加工的手段，是未来光刻技术发展的一种趋势。通过对本系统的研究，无需掩模，微尖端的发射电流就可直接曝光光刻胶，进行图形生成及加工，还通过阵列并行直写大大提高了工作效率。
　　 取得的主要研究成果如下:1，设计并制做了无掩模光刻系统中的核心器件－微尖端阵列器件，开发了一整套用于制作微尖端阵列器件的MEMS制作工艺，并创新的提出了使用微尖端阵列来进行电子束直写。2，完整的制作了一套无掩模光刻平台，并完成了CIF版图文件到微动台可识别的二进制编码的转换。3，对微尖端阵列器件发射电子的能力进行了测试，取得了理想的测试结果。