声明
摘要
插图索引
附表索引
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 半导体光催化材料概述
1.3 半导体材料掺杂国内外研究现状
1.3.1 半导体材料掺杂起源原因
1.3.2 常见半导体材料掺杂分类
1.4 第一性原理计算
1.4.1 第一性原理计算的基础理论和研究方法
1.4.2 第一性原理计算中半导体掺杂形式
1.5 课题选择的意义和研究内容
第2章 对N掺杂GeO2中光催化活性起源的第一性原理研究
2.1 引言
2.2 理论模型和计算细节
2.3 计算结果分析与讨论
2.3.1 结构性质和缺陷形成能
2.3.2 马利肯布居数(Mulliken)以及化学键分析
2.3.3 电子结构
2.3.4 光学性质
2.4 本章小结
第3章 对掺杂的石墨烯与Ag3PO4复合材料带隙附近的电子结构,界面电荷转移以及光催化性能的研究
3.1 引言
3.2 理论模型和计算细节
3.3 计算结果分析及讨论
3.3.1 几何结构和形成能
3.3.2 态密度分析
3.3.3 马利肯布居数、电荷转移和机理分析
3.3.4 光学性质
3.4 本章小结
结论与展望
参考文献
附录A 攻读硕士学位期间发表论文
致谢