封面
声明
中文摘要
英文摘要
目录
1绪论
1.1引言
1.2超硬薄膜研究进展
1.3本文的研究目的与意义
2理论与技术介绍
2.1物理气相沉积工艺简介
2.2成核理论
2.3溅射原理及技术简介
2.4薄膜形貌
2.5分析方法与仪器设备介绍
3实验过程与测试方法
3.1磁控溅射装置
3.2溅射靶材的制备
3.3溅射沉积方案的制定
3.4基片的处理过程
3.5薄膜结构、形貌、成分
3.6薄膜机械性能
4 TiB2薄膜的结构与形貌特征
4.1 X射线衍射分析结果
4.2同步辐射
4.3 FESEM截面观察
4.4 AES分析研究
5 TiB2薄膜的机械性能
5.1薄膜的硬度和弹性模量
5.2薄膜的附着力
5.3薄膜的摩擦系数与耐磨性分析
6讨论
6.1 TiB2薄膜机械性能
6.2 TiB2薄膜的显微结构6.2.1基片偏压的影响
6.3 TiB2薄膜的择优取向6.3.1 XRD测试方式的影响
7全文总结
7.1本文的主要结论
7.2本文的创新点
致谢
参考文献
附录1 谢乐方程的推导
附录2 攻读博士学位期间发表的论文