一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置与方法

摘要

本发明属于真空镀膜技术领域，公开了一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的装置，该装置包括由偏压电源供电的工件盘以及由电源Ⅱ供电的磁控溅射靶，该磁控溅射靶的前方设有由电源Ⅲ供电的线圈。本发明还公开了一种磁控溅射制备超硬超光滑四面体碳薄膜的方法。本发明将高功率脉冲磁场和磁控溅射结合，提高了磁控溅射的灵活性、宽化了镀膜的工艺窗口。