新型磁控溅射法合成超硬材料氮化碳薄膜

摘要

该工作采用封闭型非平衡磁场ｄｃ磁控溅射系统制备Ｃ〈，３〉Ｎ〈，４〉／ＴｉＮ复合交替膜，获得（１１１）晶面择优生长的ＴｉＮ，对Ｃ〈，３〉Ｎ〈，４〉强迫晶化，生成（２２１）晶面的β－Ｃ〈，３〉Ｎ〈，４〉。