基于扩散限制刻蚀模型的等离子体
Simulations of Plasma Etching Based on Diffusion Limited Erosion Model
摘要
Abstract
第1章绪论
1.1课题背景
1.2常用刻蚀技术
1.2.1湿法刻蚀
1.2.2干法刻蚀(等离子体刻蚀技术)
1.2.3等离子体刻蚀机理
1.2.4等离子体刻蚀过程中的物理化学现象
1.3刻蚀质量的评价
1.4本论文主要研究内容
第2章等离子体刻蚀常用模型与算法
2.1等离子刻蚀的物理模型
2.1.1流体模型
2.1.2动力学模型
2.1.3粒子模型
2.1.4混合模型
2.2刻蚀速率模型
2.2.1线性刻蚀模型
2.2.2离子增强刻蚀的饱和吸附模型
2.3刻蚀表面演化算法
2.3.1元胞模型
2.3.2线算法
2.3.3射线算法
2.4其它刻蚀模拟过程
2.5本章小结
第3章扩散限制刻蚀模型
3.1扩散限制腐蚀模型
3.1.1扩散限制凝聚模型
3.1.2扩散限制腐蚀模型
3.1.3改进的扩散限制腐蚀模型
3.2扩散限制刻蚀模型
3.2.1模型的建立
3.2.2模型的物理意义
3.2.3模型的编程实现
3.3本章小结
第4章模拟结果及分析
4.1扩散限制腐蚀模型模拟结果
4.2扩散限制刻蚀模型模拟结果
4.3不同调制几率下的刻蚀模拟
4.4周期性掩模下的刻蚀模拟
4.5本章小结
结论
参考文献
攻读学位期间发表的学术论文
哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明
哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书
致谢