声明
摘要
图和附表清单
1 绪论
1.1 研究背景与意义
1.2 国内外研究现状与发展
1.3 高压集成电路ESD防护设计目标
1.4 面临的挑战
1.5 论文的结构安排
2 ESD防护设计的基本理论
2.1 ESD防护原理
2.2 ESD放电模型
2.2.1 人体模型(HBM)
2.2.3 充电器件模型(CDM)
2.2.4 传输线脉冲测试模型(TLP)
2.3 ESD的测试方法
2.3.1 I/O引脚与电源之间的ESD应力测试
2.3.2 I/O引脚之间的ESD应力测试
2.3.3 VDD引脚与VSS引脚之间的ESD应力测试
2.4 ESD防护方案的设计
2.4.1 器件级ESD防护方法
2.4.2 ESD的设计窗口
2.4.3 电路级ESD防护方法
2.5 Sentaurus TCAD
2.5.1 TCAD仿真技术的发展历程
2.5.2 器件仿真的基本流程
2.5.3 TCAD仿真软件的物理模型及数学解析方法
2.6 本章小结
3 ESD防护器件的研究与优化设计
3.1 二极管的ESD防护研究
3.1.2 参数d3对二极管性能的影响
3.1.3 基于二极管的ESD防护方案
3.2 BJT的ESD防护研究
3.2.1 BJT的ESD防护原理
3.2.2 BJT的TCAD仿真分析
3.2.3 基于BJT的ESD防护方案
3.3 MOSFET的ESD防护研究
3.3.1 GGNMOS器件的ESD防护原理
3.3.2 55nm工艺下GGNMOS的流片测试
3.3.3 提高GGNMOS的维持电压的设计方案
3.4 SCR的ESD防护研究
3.4.1 闩锁效应(Latch-up)
3.4.2 传统SCR的ESD防护原理
3.4.3 SCR器件TCAD仿真研究
3.5 ESD防护器件的性能对比
3.6 本章小结
4 新型高压集成电路防闩锁的ESD防护研究与设计
4.1 高压ESD防护方案
4.2 0.18μm工艺下SCR器件的流片测试
4.3 提高SCR防护器件维持电压的方法
4.4 新型高维持电压的SCR结构
4.4.1 新型HHVSCR结构及其原理分析
4.4.2 新型HHVSCR器件的TCAD仿真分析
4.4.3 关键尺寸NIL深度的影响
4.4.4 关键尺寸参数d3的影响
4.5 本章小节
5 新型HHVSCR堆叠结构的研究与设计
5.1 堆叠低压ESD器件的研究
5.2 新型HHVSCR结构性能的优化设计
5.3 新型HHVSCR堆叠结构的研究与分析
5.3.2 HHVSCR堆叠结构的仿真分析
5.4 性能对比
5.5 本章小节
6 总结与展望
6.1 论文总结
6.2 展望
参考文献
个人简历与研究成果
致谢